PHI GENESIS聚焦X射線光電子能譜儀的詳細資料

PHI Genesis 500是新一代配置了全自動多功能掃描聚焦X 射線光電子能譜，易操作式多功能選配附件，能夠?qū)崿F(xiàn)全自動樣品傳送停放，同時還具備高性能大面積和微區(qū)XPS 分析，快速準(zhǔn)確深度剖析，為電池、半導(dǎo)體、有機器件以及其他各領(lǐng)域提供多方面的解決方案。

簡單易操作

PHI GENESIS 提供了一種全新的用戶體驗，儀器高性能、全自動化、簡單易操作。

操作界面可在同一個屏幕內(nèi)設(shè)置常規(guī)和高級的多功能測試參數(shù)，同時保留諸如進樣照片導(dǎo)航和SXI 二次電子影像準(zhǔn)確定位等功能。

簡單友好的用戶界面

多功能選配附件

原位的多功能自動化分析，涵蓋了從LEIPS 測試導(dǎo)帶到HAXPES 芯能級激發(fā)的全范圍技術(shù)，相比于傳統(tǒng)的XPS 而言，PHI GENESIS 體現(xiàn)了良好的性能價值。

全面的優(yōu)良解決方案:

高性能XPS、UPS、LEIPS、REELS、AES、GCIB 及多種其他選配附件可以滿足所有表面分析需求。

多數(shù)量樣品大面積分析

把制備好樣品的樣品托放進進樣腔室后將自動傳送進分析腔室內(nèi)

可同時使用三個樣品托

80mm×80mm 的大樣品托可放置多數(shù)量樣品

可分析粉末、粗糙表面、絕緣體、形狀復(fù)雜等各種各樣的樣品

標(biāo)準(zhǔn)樣品托 40mm×40mm                                ?樣品托 80mm×80mm

可聚焦≤ 5μm 的微區(qū)X 射線束斑

在PHI GENESIS 中，聚焦掃描X 射線源可以激發(fā)二次電子影像（SXI），利用二次電子影像可以進行導(dǎo)航、準(zhǔn)確定位、多點多區(qū)域同時分析測試以及深度剖析。

快速深度剖析

PHI GENESIS 可實現(xiàn)高性能的深度剖析。聚焦X 射線源、高靈敏度探測器、高性能氬離子設(shè)備和高效雙束中和系統(tǒng)可實現(xiàn)全自動深度剖析，包括在同一個濺射刻蝕坑內(nèi)進行多點同時分析。

角分辨XPS 分析

PHI GENESIS XPS 的高靈敏度微區(qū)分析和高度可重現(xiàn)的中和性能確保了對樣品角分辨分析的性能。另外，樣品傾斜和樣品旋轉(zhuǎn)相結(jié)合，可同時實現(xiàn)角度的高分辨率和能量的高分辨率。

應(yīng)用領(lǐng)域

主要應(yīng)用于電池、半導(dǎo)體、光伏、新能源、有機器件、納米顆粒、催化劑、金屬材料、聚合物、陶瓷等固體材料及器件領(lǐng)域。

用于全固態(tài)電池、半導(dǎo)體、光伏、催化劑等領(lǐng)域的*功能材料都是復(fù)雜的多組分材料，其研發(fā)依賴于化學(xué)結(jié)構(gòu)到性能的不斷優(yōu)化。ULVAC-PHI,Inc. 提供的全新表面分析儀器“PHI GENESIS" 全自動多功能掃描聚焦X 射線光電子能譜儀，具有性能、高自動化和靈活的擴展能力，可以滿足客戶的所有分析需求。

多功能選配附件

UPS 紫外光電子能譜、LEIPS 低能反光電子能譜、AES/SAM 俄歇電子能譜、REELS 反射式能量損失譜、雙陽極X 射線源（Mg/Zr、Mg/Al）、Ar-GCIB 氬團簇離子源、Ar-GCIB 簇大小測量工具、C60 團簇離子源 （20KV）、樣品加熱冷卻模塊、4 電觸點加熱冷卻模塊、樣品保護傳送模塊、SPS 樣品定位系統(tǒng)等等。

平面圖

安裝要求